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产品名称：定向CVD生长炉

产品型号： OTF-1200X-50-DSL

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OTF-1200X-50-DSL是一款水平滑轨炉，其炉管直径为Φ50mm,炉体滑动速度可以根据实验需要而设置（1mm/sec-100mm/s),并可以设置左右反复滑动，同时还可以设置炉体的滑动距离。此款管式炉专门设计用CVD方法定向生长单壁碳纳米管（SWCNTs）。通时此款滑轨炉也可用来在硅片上生长熔点较低的金属单晶。此系统包含了可设30段程序的高温炉、一根Φ50*1000mm的石英管和一套不锈钢真空法兰。

产品名称	OTF-1200X-50-DSL定向CVD生长炉
产品型号	OTF-1200X-50-DSL
主要参数	炉体结构： ·采用双层壳体结构，并带有风冷系统 ·一个滑轨安装在炉体下端，可通过一6“的触摸屏来控制炉体移动方向、滑动速度和往返次数 ·采用高纯氧化铝纤维作为炉膛材料，并且表面涂有美国进口高温氧化铝涂层，可提高加热效率和延长使用寿命。
	功率：1.5KW
	电压：AC220V，单相
	最高共工作温度：1200℃（≤1小时）
	连续工作温度：1100℃
	加热区域： ·加热区：200mm(单温区） ·通过管堵位置和炉体移动可形成想得到的温度梯度
	加热元件：掺钼铁铬铝（表面涂有高温氧化锆涂层，可延长其使用寿命）
	炉管： ·高纯石英管 ·尺寸：50mmODx46mmIDx1000mmL ·仪器加热前，必须放入管堵，以防止热量辐射影响法兰的密封性
	温控系统： ·采用PID方式调节温度，可设置30段升温、降温和保温程序 ·设置有温度过高和断偶保护系统 ·控温精度：±1℃ ·可选测PC控制软件，将升温程序和温度曲线导入到电脑中
	炉体滑动控制系统： ·触摸屏控制 ·炉体移动有手动和自动控制两种控制状态，在手动状态和自动状态下均可设定左右移动的速度，但只有在自动状态下才能设定左右移动的次数。 ·含蜂鸣报警器，当炉体触碰到限位开关就会产生报警，并切断控制电路，使炉体停止移动。 ·可显示高温炉内的炉温，与之通讯
	密封法兰： ·仪器中配有一套不锈钢密封法兰（上面已安装不锈钢针阀和机械压力表） ·法兰上有一Φ6.35的铠装孔，可将热电偶插入到炉管中，更准确地测量样品的实际温度
	石英气体喷嘴：可选配石英气体喷嘴，将反应气体与缓冲清洗气体分开通入，可有效减少副反应发生，实现高端CVD工艺，如局部控制前体浓度化学气相沉积工艺（ALC CVD）或单晶二维材料薄膜的生长工艺等。
	真空度： ·10E-5torr（用分子泵） ·10E-2 torr（用直联式机械泵）
	滑轨长度：1200mm
	产品尺寸： ·315x300x380mm(炉体) ·1200x400x530mm(整个外形) ·360x180x300mm（电器控制柜）产品重量：•100KG