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VTC-100ML全自动多层钙钛矿旋转涂层机适用于钙钛矿材料的涂膜,半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机实现滴胶、旋涂、烘干的整个过程自动完成;可同时交替涂覆两种薄膜,两种液体各交替最多500次,实现千层薄膜的涂覆。本机可用于酸、碱性涂覆溶液的涂膜制备。设备标配不同尺寸的真空吸盘,可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘,利用真空吸附的方式固定基片。该机主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。
1、真空吸附方式固定样件,操作简便。
2、根据样件规格可以配用不同的吸盘,且更换方便简单。
3、电机采用24V直流无刷电机,可靠性高,适应性强,维修与保养简单,噪音低,震动小,运转平稳,启动快速稳定,加速后运行平稳,可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。
4、采用无油真空泵,体积小巧、结构简单、操作容易、维护方便、不会污染环境等优点。
5、腔体采用聚四氟乙烯材质,使用寿命更长,耐化学腐蚀性和优异的抗应力开裂性能;机身采用钣金结构,结实耐用且质轻。
6、加热后可通气体进行快速冷却。
7、中文操作界面(全英文操作系统可选)
8、具有开盖保护功能,当涂膜过程中或涂膜结束时打开上盖后机器立刻迅速减速直到停止。
9、控制界面采用触摸屏控制,操作简单方便,显示直观。
10、全自动的涂膜过程:自动滴胶、自动通气、自动旋涂、自动烘干。
11、可两种液体交替涂膜,最多可涂1000层薄膜。
产品名称 |
VTC-100ML全自动多层钙钛矿旋转涂层机 |
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产品型号 |
VTC-100ML |
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安装条件 |
1、温湿度:10-85%RH (at 25℃ 无凝露) 温度: 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。 3、水:需排污下水 4、电:单相:AC220V 50Hz 国标三极插座 10A 必须有良好接地 5、气:①样品盘:真空负压(真空泵) 抽气流量不小于 70L/M ②冷却:压缩气体或自行规定的惰性气体 6、工作台 建议 1500X600X700mm 承重 100KG 以上(固体水泥台最佳) 7、通风装置:无特殊要求 |
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主要参数 |
1、涂膜机供电 DC 24V 15A(标配“电源适配器”) 2、滴料器供电 DC 24V 15A(标配“电源适配器”) 3、加热供电 独立供电:AC220V 50Hz 4、总功率 ≤350W(不含加热与外接真空泵) 5、加热功率 1350W 6、加热温度 最高温度:RT~200℃ 7、控温精度 ±2℃ 8、加热方式 辐射烘烤加热(碳纤维加热管) 9、控制方式 PLC 编程器+触摸屏 10、涂膜主机腔体(材质):聚四氟乙烯 11、载样盘(吸盘):聚四氟真空吸盘和铝制吸盘:各一套(1 英寸、2 英寸、4 英寸)(加热时请使用聚四氟吸盘,铝制吸盘导热快勿使用) 12、真空压力显示 电子式数显压力传感器(数显真空压力表)低压型:-100~100kPa 13、涂膜运行方式 包含两组程序:A、B 组、组循环可达 500 次,每组程序分为六段运行 14、涂膜转速 500~10000rpm(任意整数设置,最小增量为 1rpm) 15、增减速率 每段增减速设置范围:10~2000rpm(增量为 10 的整数倍) 16、转速稳定性 ±1% 17、加料方式 滴料器---精准定量滴液:搭配平口针头 |
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产品规格 |
18、产品规格:
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序号 | 名称 | 数量 | 图片链接 |
1 |
真空吸盘(含O型圈) |
6个(Ø25.4mm、Ø50.8mm、Ø101.6mm) |
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2 |
中心定位器 |
3个 |
- |
3 |
滴胶注射器(20ml) |
2个 |
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4 |
微量蠕动泵 |
1套 |
- |
5 |
1台 |
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序号 |
名称 |
功能类别 |
图片链接 |
1 |
其它尺寸的真空吸盘
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(可选) |
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2 |
静音无油空气压缩机
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(可选) |
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