沈阳科晶自动化设备有限公司

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产品名称：光谱椭偏仪

产品型号： SE-L

产品简述：03090804

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技术参数

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SE-L光谱椭偏仪是一款全自动高精度光谱椭偏仪，集众多科技专利技术，采用行业前沿创新技术，配置全自动测量模块。通过椭偏参数、透射/反射率等参数的测量，快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析。SE-L光谱椭偏仪广泛应用于半导体薄膜结构：介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜，激光二极管GaN和AlGaN、透明的电子器件、平板显示、光伏太阳能、功能性涂料、生物和化学工程、块状材料分析等领域。1、高精度自动测量光学椭偏测量解决方案
2、全自动变角、调焦等控制平台，一键快速测量
3、软件交互式界面配合辅助向导式设计，易上手、操作便捷
4、丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力
5、采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm)
6、高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置，实现Psi/Delta光谱数据高速采集
7、全自动椭偏测量技术，基于行业领先电机控制技术，全自动调整测量角度，高精度控制样件台，实现样件快速自动对准找焦
8、颐光专利技术确保在宽光谱范围内，提供优质稳定的各波段光谱
9、数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料

产品型号	SE-L光谱椭偏仪
技术参数	1、自动化程度：自动变角 2、应用定位：自动型 3、基本功能：Psi/Delta、N/C/S、R/T等光谱 4、分析光谱：380-1000nm(可扩至193-2500nm) 5、单次测量时间：0.5-5s 6、重复性测量精度：0.01nm 7、光斑大小：大光斑2-3mm,微光斑200um 8、入射角调节方式：自动变角 9、入射角范围：45-90° 10、找焦方式：自动找焦 11、Mapping行程：支持100x100mm(可选配) 12、支持样件尺寸：最大至200mm
可选配置	波段选择 V:380-1000nm UV:245-1000nm XN:210-1650nm DN+:193-2500nm 角度选择自动:45-90° 其他选择 Mapping选择:100×100mm(供参考,按需定制) 温控台:室温一600℃(供参考,按需定制)
可选配件	1	温控台
	2	Mapping扩展模块
	3	真空泵
	4	透射吸附组件