客服
留言
返回顶部

工作时间

周一至周五:8:00-11:30 12:30-17:00

产品中心

Products Center

#
  • #
#
产品名称: 单靶磁控溅射仪
产品型号: VTC-600-1HD
产品简述:05050117
浏览次数: 3396
技术参数
设备视频
附件下载

VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD双靶磁控溅射仪配备有一个靶枪,可选择强磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非导磁材料的溅射镀膜,强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。1、可选一个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜或配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜,应用广泛。
3、体积小,操作简便。

产品名称 VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪
产品型号
VTC-600-1HD
安装条件 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)
2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地
3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套接头)及减压阀
4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通风装置:需要
主要参数
1、电源电压:220V  50Hz
2、功率:<1KW(不含真空泵)
3、腔体内径:Ø300mm
4、极限真空度:9.0×10-4Pa
5、样品台加热温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)
6、靶枪数量:1个(可选配其他数量)
7、靶枪冷却方式:水冷
8、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
9、直流溅射功率:500W;射频溅射功率:300W。(靶电源种类可选,可选择直流或射频电源)
10、载样台:Ø140mm,可根据客户需求选配加装偏压功能,以实现更高质量的镀膜。
11、载样台转速:1rpm-20rpm内可调
12、工作气体:Ar等惰性气体
13、进气气路:质量流量计控制2路进气,一路为100SCCM,另一路为200SCCM。
产品规格

1、主机尺寸:500mm×560mm×660mm
2、整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm
3、重量:160kg
4、真空室规格:φ300×300mm

标准配件 1、直流电源控制系统1套(可选)
2、射频电源控制系统1套(可选)
3、冷水机1台
4、聚酯PU管(Ø6mm)4m
可选配件 1、金、铟、银、白金等各种靶材,可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。
2、膜厚监测仪系统
3、分子泵(德国进口或者国产更大抽速)

相关文章

免责声明

本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等),仅供参考。可能由于更新不及时,或许导致所述内容与实际情况存在一定的差异,请与本公司销售人员联系确认。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知。

在线留言

请填写表格与我们联系

看不清楚,换一张